ICBPナノ 真空浸炭、真空浸炭窒化用に最もコンパクトな設備

ICBP®ナノは、ECMテクノロジーの真空浸炭・真空浸炭窒化シリーズの中で最も新しい製品。

ICBP®ナノは、生産ラインに組み込むことができ、それによりサイクルタイムを短縮し、機械加工から熱処理までのフローをシンプルにすることができます。

ICBP®ナノは、3つの加熱セルを縦に重ねたモジュールと、ヘリウムまたは窒素使用の冷却用ガス焼入れセルからなります。(加熱モジュールを2基にすれば、加熱セル6基に増設可能)加熱セルを縦に重ねたことで工業生産用真空設備の省スペース化が図れました。

この設備は、低歪変形を達成しつつ、チャージ間の優れた均一性、再現性を保証します。各加熱セルは個別制御で、温度、ガス注入、熱処理条件をセルごとに変えて処理できます。フレキシブルかつコンパクトな設備で、生産性改善と熱処理の質向上を保証します。

  • 真空浸炭
  • 真空浸炭窒化
  • ガス焼入れ
    • ヘリウム (He) または窒素 (N2)
    • 最大圧力10バール(オプションで20バール)
  • 高温焼戻し
  • 真空焼鈍
  • ろう付け
  • 焼結

ICBP® Nano 300 (3 cells configuration)

5500 x 3800 x 3800

幅 x 長さ x 高さ

ICBP® Nano 600 (6 cells configuration)

8000 x 3800 x 3800

幅 x 長さ x 高さ

  • 以下の規格への適合
    • AMS2750
    • CQI9
  • 中性ガス対流装置
  • 高温処理オプション
  • 冷却水循環装置
  • 焼入れ用ガス回収システム(ヘリウム用)
  • 炉および付帯設備(洗浄機、プレヒーター、焼戻し炉、一時保管場所、搬送システム、搬出装置など)のライン組み込みが可能。
  • ロボットによる完全自動化ゾーン・ラインのターンキーソリューションも可能。

当社の真空浸炭炉シリーズ